一、真空管式爐用途

真空管式爐主要應用于高等院校、科研院所、工礦企業等實驗和小批量生產之用。主要用于粉  體、電子、陶瓷等其它產品的預燒、燒結、鍍膜、高溫熱解低溫沉積（cvd）工藝等

二、真空管式爐結構

1.爐體采用雙層爐殼結構，雙層爐殼之間裝有風機，可以快速升降溫，爐殼表面溫度低。

2.爐管采用99高純剛玉管、兩端采用sus304高真空法蘭密封。

3.爐膛材料采用優質的進口氧化鋁多晶纖維真空吸附制成，節能50％，加熱爐膛為一體化，方便取放實驗物料、更換爐管。加熱元件采用硅碳棒。

4.電爐溫度控制系統采用人工智能調節技術，具有pid調節、模糊控制、自整定能力并可編制各種升溫程序等功能，該控制系統溫度顯示精度為±1℃，溫場穩定度±5℃，升溫速率1~20℃可任意設置。

5.真空度可以達到10pa

三、真空管式爐參數型號爐膛尺寸(mm)

(dxwxh)功率

(kw)最高溫度

(℃)額度溫度

（℃）加熱元件電壓

（v）jw60/16φ60×1000716001500硅鉬棒380jw80/16φ80×1000916001500硅鉬棒380jwf100/16φ100×1000916001500硅鉬棒380注：可根據用戶要求另行設計制造，更多規格及參數和詳細技術方案請來電咨詢！