jc-00系列產品是深圳晶材化工有限公司生產的納米拋光液，采用納米技術和超分散設備合成的cmp漿料。產品分別適用于鋁合金鏡面拋光，不銹鋼鏡面拋光，大理石和石材精拋工藝。

主要特點

jc-00系列產品具有表面張力低、易清洗、拋光速率高、拋光鏡面粗糙度低等特點，非常適用于不銹鋼的拋光工藝。直接效果達到不銹鋼鏡面的光線散射減弱，成像更清晰；水紋現象減弱或消除；本品具拋光及鈍化功能，適用于對不銹鋼表面要求高度鏡面效果的產品。在拋光中根據需要可以優化不同配比，均能達到最佳使用效果。

jc-00系列產品綜合了化學和機械拋光的優勢：單純的化學拋光，拋光速率較快，表面光潔度高，損傷低，完美性好，但表面平整度和平行度差，拋光后表面一致性差；單純的機械拋光表面一致性好，表面平整度高，但表面光潔度差，損傷層深。化學機械拋光可以獲得較為完美的表面，又可以得到較高的拋光速率，得到的平整度比其他方法高兩個數量級，是目前能夠實現全局平面化的唯一有效方法。

主要用途

jc-005h主要應用于不銹鋼的拋光工藝中。

jc-003h主要用于鋁合金鏡面拋光工藝；

jc-001h主要用于大理石精拋工藝；

基本參數:

ph值 8.5～9.5

比重 1.280-1.295

粘度（稀釋后）< 10.0(mpa.s)

磨料粒徑 100～120(nm)

磨料濃度 40±2％